去除電漿製程中的射頻變異性極有可能提高良率和生產率,特別是在10奈米以及以下節點,隨著沉積和蝕刻製程配方變得日益複雜,這點也變得相當重要...
https://www.eettaiwan.com/20201211nt71-reno-sub-systems-rf-matching/
同時也有1部Youtube影片,追蹤數超過29萬的網紅陳寗 NingSelect,也在其Youtube影片中提到,品日子空氣清淨機團購:http://bit.ly/364xZyb 陳寗嚴選兩聲道入門組:https://lihi1.cc/uGJlf 陳寗嚴選家電團購:https://lihi1.cc/mdzk9 -- 為什麼選這台空氣清淨機作為陳寗嚴選中價位的新成員?原因有以下四項: 1. 阿肥 A4 缺貨了...
電漿製程 在 COMPOTECHAsia電子與電腦 - 陸克文化 Facebook 的最佳解答
#物聯網IoT #半導體製程 #電漿感測片Plasma Indicator #3D封裝 #放電偵測 #無機色材 #蘭摩爾探針Langmuir probe #陶瓷基板 #發光二極體LED #微機電MEMS
【根絕雜質干擾的殺手鐧:無機/無金屬色材】
對大部分半導體來說,電漿 (Plasma) 處理仍是標準製程之一。利用氣體的物理特性或化學沉積,改變材料表面結構、蝕刻、濺鍍或離子佈植 (Ion implantation),以提高電子元件的可靠度、穩定度及工作壽命。要評估電漿製程是否到位?傳統方法是量測蝕刻深度或接觸角度,不僅作業耗時、且設備十分昂貴或有欠精準;藉由觀察電漿感測片 (Plasma Indicator) 色階變化,可提高生產效率。
它利用功能性的色材自由基 (radicals) 或離子反應,將電漿處理的程度予以視覺化,更便於判讀——顏色會由深轉淺,依序從灰紫、深綠到淺綠,隨著每次電漿強度逐漸變化。感測片有卡式和圓片形兩種,前者可解決二維平面難以用光學方式量測的問題,後者能取代電磁探棒做大面積評估;除了供週期或維運查核之用,特別適合難以量測的場域、3D 立體待測物及異常放電偵測。
無機色材為氣體不易揮發及高熱阻特性 (耐熱可達 200℃) 的優選結合,而將無機色材塗佈於陶瓷基板上,耐熱可達 400℃,對發光二極體 (LED) 或微機電 (MEMS) 製程是一大福音,矽材或藍寶石基板皆適用;另試圖根除金屬成份的無金屬 (Metal Free) 色材,則可望提高矽半導體的電漿清洗淨化度。
延伸閱讀:
《「PLAZMARK」感測片+無機色材,搞定電漿麻煩事》
http://compotechasia.com/a/____//2017/1018/36975.html
(點擊內文標題即可閱讀全文)
#Sakura Color Products Corporation #昱凱科技 #PLAZMARK #SEMICON2017
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電漿製程 在 國立陽明交通大學電子工程學系及電子研究所 Facebook 的最讚貼文
「先進電漿蝕刻技術」,課程將介紹最新技術-新型蝕刻技術(中性粒子束)及其發展現況 , 講師為長庚大學電子系黃啟賢博士,曾先後於奇美光電、日本東北大學服務,從事先進電漿製程與半導體應用之研究,為此領域專業技術與研究人士, 101年10月27日(六)開課,享政府補助,歡迎聯絡報名!
電漿製程 在 陳寗 NingSelect Youtube 的最讚貼文
品日子空氣清淨機團購:http://bit.ly/364xZyb
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為什麼選這台空氣清淨機作為陳寗嚴選中價位的新成員?原因有以下四項:
1. 阿肥 A4 缺貨了,而且不知道何時才會再有。
2. 這台品日子沒有電漿、沒有負離子、沒有光觸媒,所以沒有臭氧疑慮。
3. 超低耗電,最低檔運轉只要 6W
4. 能讓我信服的次氯酸殺菌塗層製程與運作原理
先前很多朋友跟我反應,他們希望有一台好電量超低,且完全沒有臭氧疑慮的空氣清淨機。雖然我覺得臭氧這種東西…就跟電磁波一樣,就是看個人信念問題的東西。但既然有人不喜歡,那我就來幫大家找一台完全沒有這種疑慮的機器吧!但我個人認為殺菌是非常重要的環節,如果沒有任何殺菌功能,那麼空氣清淨機也只不過是一台細菌培養皿而已,根本超噁。所以要沒有任何主動殺菌,但又要有殺菌功能,怎麼辦呢?以前我說過,很多空氣清淨機會用殺菌濾網來攔截細菌,但一來他們空隙通常都很大,二來會有細菌堆積的問題,因此我並不看好這樣的作法。
那麼品日子為什麼能讓我信服?請看影片囉~
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電漿製程 在 Must明新科技大學應材系- 電漿(plasma)... - Facebook 的推薦與評價
電漿 (plasma) 到底是什麼,基本上是電中性的帶電粒子團,其中包括離子 ... 歡迎加入明新化材系,我們將培育你們成為先進半導體 製程 與封裝產業的人才。 ... <看更多>
電漿製程 在 Re: [問題] 有清大同學修施漢章的電漿製程技術? - 看板TTU-TE91 的推薦與評價
※ 引述《WAIJEE (沒有負債就不會想努力)》之銘言:
: ※ 引述《tangent (又是叫我趙文卓)》之銘言:
: : 1. 請以Ar和Ne的電漿說明Penning反應如何發生?
: : 2. DC放電之崩潰電壓決定於氣體壓力(P)和電極間距(d),說明Pd之高值與低值之間
: : 的電漿現象?
: : 3. 說明ECR電漿的結構和產生條件
: : 4. 在ECR電漿(2.45GHZ)中,Ar離子垂直於共振磁場之能量3ev,請計算Larmor半徑長度
: : 及反應腔尺寸應為何?
: : 5. 計算ND及RL
: : 6. 質譜儀是應用什麼原理來偵測電漿化學?
: : 7. 微波或RF經射出後如何輸入反應腔,用導線或導波管? 請說明
: : 8. 沉積或蝕刻Si晶,選用dc或rf電漿? why?
: : 9. 匹配電路的功能? 以dc最大功理論證明
: : 10. 如何利用單極Langmuir probe 量得Vp. Vf.Te.ne
: : 11. 為什麼會有Bohm sheath criterion的出現,請以Vx vs X說明
: : 並證明介面電位Vi(x=0)=K*Te/e
: : 12. 證明進入sheath的離子速度大於(K*Te/mi)1/2 1/2次方阿
: : 13. 請derive在無外加磁場條件下之微波(2.45GHz)進入電漿時之電子密度,
: : 請由W大於等於Wp開始
: : 有些我沒辦法用下標,請自行分辨吧!!
: : 像ND及Vf ne mi(離子重)
: 這些你都會嗎???
謝謝 答案找的差不多了 3q!!
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.csie.ntu.edu.tw)
◆ From: 140.120.134.204
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